等離子拋光也稱(chēng)電漿拋光。主要用于五金件產(chǎn)品的拋光以及真空鍍膜的前處理,在表面處理行業(yè)屬于新的工藝,附近等離子拋光,本文將在等離子拋光的工作原理、應(yīng)用優(yōu)勢(shì)以及在表面處理行業(yè)的應(yīng)用來(lái)說(shuō)明它與真空鍍膜的協(xié)調(diào)性。
等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng),分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,等離子拋光報(bào)價(jià),處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi),因此等離子化學(xué)活化工件表面,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。
等離子拋光
等離子拋光生產(chǎn)工藝流程是:
3.1上掛工序:先將工件裝上掛具。
3.2上架工序:把掛具掛在電鍍架上。
3.3電漿拋光工序:將工件和掛具一并放進(jìn)電漿液缸中進(jìn)行電漿拋光,等離子拋光,電漿液的工作溫度為70℃~100℃,工作時(shí)間為30S~1800S,拋光的過(guò)程中會(huì)旋轉(zhuǎn)180度。
3.4下架工序:將掛具從電鍍架上取下。
3.5水洗工序:將取下的掛具放入水中清洗。
3.6烘烤工序:將經(jīng)過(guò)超聲波純水工序的工件放進(jìn)烤箱進(jìn)行烘烤,烤箱內(nèi)的溫度為60-120℃,烘烤的時(shí)間為360S~480S;
3.7下掛工序:后將烘烤完成后的工件從掛具取下,形成工件成品。
等離子拋光
什么是等離子?
人們常常把等離子稱(chēng)為物質(zhì)的第四態(tài)。我們通常認(rèn)為物質(zhì)有三種狀態(tài):固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)。以常見(jiàn)的物質(zhì)“水”為例,水的三種狀態(tài)分別是冰、水和水蒸氣。這些狀態(tài)的區(qū)別在于其能量水平。當(dāng)以加熱的形式給冰增加能量時(shí),冰會(huì)融化成水。繼續(xù)增加能量,水就會(huì)蒸發(fā)形成蒸氣形態(tài)的氫和氧。繼續(xù)給蒸氣增加能量,氫和氧就會(huì)離子化。離子化過(guò)程會(huì)使氣體變?yōu)閷?dǎo)電體。這種能導(dǎo)電的離子化氣體就是所謂的等離子。
等離子體技術(shù)作為一個(gè)學(xué)科交叉的前沿研究領(lǐng)域,在材料、能源、天文、化工、生物工程等方面具有廣泛的應(yīng)用,在并不算長(zhǎng)的發(fā)展歷程中已經(jīng)在化學(xué)合成、新材料研制、精密電化學(xué)加工、表面處理等領(lǐng)域開(kāi)拓出一系列新技術(shù)和新工藝。傳統(tǒng)的等離子體拋光技術(shù)在真空、低壓或者常壓下激發(fā)產(chǎn)生等離子體,等離子體拋光加工,利用等離子體中的活性粒子與表面材料粒子發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成揮發(fā)性物質(zhì),將表面材料去除,主要應(yīng)用于光學(xué)元件的加工,處理對(duì)象絕大多數(shù)為半導(dǎo)體材料。
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