東莞拉奇納米科技有限公司,是將派瑞林(parylene)高分子材料裂解為納米分子再進(jìn)行產(chǎn)品表面的真空鍍膜處理。使被鍍物具備以下特性:無(wú)細(xì)孔、防水、防潮、耐酸堿、抗鹽霧、高抗壓、絕緣、生物兼容性等。
派瑞林材料的優(yōu)勢(shì)是什么?那還得從機(jī)理來(lái)說(shuō),派瑞林有機(jī)涂層是通過(guò)活性單體氣相沉積聚合制備的,單體的氣相沉積與涂層的形成是同時(shí)進(jìn)行,沒(méi)有中間的液體過(guò)渡態(tài)。
Parylene真空鍍膜加工中頻磁控濺射
目標(biāo)源可分為平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂層均勻,且非平衡靶源的涂層與基材的附著力強(qiáng)。平衡靶源主要用于半導(dǎo)體光學(xué)薄膜,非平衡靶源主要用于裝飾膜的佩戴。
無(wú)論平衡還是不平衡,如果磁鐵是靜止的,其磁性決定了現(xiàn)有材料的利用率通常小于3。為了提高靶材的利用率,可以采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。然而,金屬Parylene,旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要一個(gè)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),塑料Parylene,并且應(yīng)降低等待速率。旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)主要用于大型或有價(jià)值的目標(biāo)。如半導(dǎo)體薄膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備,五金配件Parylene,通常使用磁場(chǎng)靜態(tài)目標(biāo)源。
真空鍍膜加工是利用化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體,借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng),神灣Parylene,在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。
在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有較為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤(pán)、半導(dǎo)體激光器,約瑟夫遜器件、電荷耦合器件( CCD )也都甬道各種薄膜。
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