濺射靶材ITO靶材的生產(chǎn)工藝 ITO靶材的生產(chǎn)工藝可以分為3種:熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結(jié)法。各種生產(chǎn)工藝及其特點(diǎn)簡介如下:
熱等靜壓法:ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預(yù)先成形的胚體,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結(jié)。熱等靜壓工藝制造產(chǎn)品密度高、物理機(jī)械性能好,但設(shè)備投入高,生產(chǎn)成本高,產(chǎn)品的缺氧率高。
中國的工業(yè),由于長期處于計(jì)劃經(jīng)濟(jì)體制內(nèi),玫瑰金靶材加工,發(fā)展比較緩慢,對于金銀而言,可以說是歷史悠久,源遠(yuǎn)流長了,阜新玫瑰金靶材,但在改革開放前,沒有納入國家計(jì)劃渠道的,直至2002年10月30日上海黃金正式開業(yè),才宣告了計(jì)劃經(jīng)濟(jì)時金銀管理?xiàng)l例的失效,而鉑族金屬工業(yè)更是起步晚、技術(shù)落后,玫瑰金靶材多少錢,直到改革開放以后,才有了突飛猛進(jìn)的發(fā)展,但與國際上的國家相比較,依然是落在人家后面,因此在中國無論是的投資儲備需求,還是實(shí)際的應(yīng)用需求。
而未米的0.18um}藝甚至0.13m工藝,所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。銅與鋁相比較,銅具有更高的抗電遷移能力及更低的電阻率,能夠滿足!導(dǎo)體工藝在0.25um以下的亞微米布線的需要但卻帶米了其他的問題:銅與有機(jī)介質(zhì)材料的附著強(qiáng)度低.并且容易發(fā)生反應(yīng),導(dǎo)致在使用過程中芯片的銅互連線被腐蝕而斷路。
為了解決以上這些問題,需要在銅與介質(zhì)層之間設(shè)置阻擋層。阻擋層材料一般采用高熔點(diǎn)、高電阻率的金屬及其化合物,因此要求阻擋層厚度小于50nm,與銅及介質(zhì)材料的附著性能良好。銅互連和鋁互連的阻擋層材料是不同的.需要研制新的靶材材料。銅互連的阻擋層用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等.但是Ta、W都是難熔金屬.制作相對困難,如今正在研究鉬、鉻等的臺金作為替代材料。
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