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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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導(dǎo)電輥包括導(dǎo)電輥的外層由至少部分導(dǎo)電性由離子導(dǎo)電性聚合物的組合物賦予的導(dǎo)電性橡膠組合物構(gòu)成、內(nèi)層由離子導(dǎo)電性聚合物的組合物賦予導(dǎo)電性的導(dǎo)電層以外的橡膠等構(gòu)成的雙層導(dǎo)電輥，以及與上述相反的外層由離子導(dǎo)電性聚合物賦予導(dǎo)電性的導(dǎo)電層以外的橡膠等構(gòu)成、內(nèi)層由至少部分導(dǎo)電性由離子導(dǎo)電性聚合物的組合物賦予的導(dǎo)電性橡膠組合物構(gòu)成的雙層導(dǎo)電輥。
而未米的0.18um}藝甚至0.13m工藝，銀焊料哪家好，所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。銅與鋁相比較，銅具有更高的抗電遷移能力及更低的電阻率，能夠滿足！導(dǎo)體工藝在0.25um以下的亞微米布線的需要但卻帶米了其他的問題：銅與有機(jī)介質(zhì)材料的附著強(qiáng)度低．并且容易發(fā)生反應(yīng)，導(dǎo)致在使用過程中芯片的銅互連線被腐蝕而斷路。
為了解決以上這些問題，需要在銅與介質(zhì)層之間設(shè)置阻擋層。阻擋層材料一般采用高熔點(diǎn)、高電阻率的金屬及其化合物，盤錦銀焊料，因此要求阻擋層厚度小于50nm，與銅及介質(zhì)材料的附著性能良好。銅互連和鋁互連的阻擋層材料是不同的．需要研制新的靶材材料。銅互連的阻擋層用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等．但是Ta、W都是難熔金屬．制作相對困難，銀焊料生產(chǎn)廠家，如今正在研究鉬、鉻等的臺(tái)金作為替代材料。
背靶材料：
無氧銅(OFC)– 目前常使用的作背靶的材料是無氧銅，因?yàn)闊o氧銅具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性，而且比較容易機(jī)械加工。 如果保養(yǎng)適當(dāng)，無氧銅背靶可以重復(fù)使用10次甚至更多。
鉬(Mo)– 在某些使用條件比較特殊的情況下，如需要進(jìn)行高溫帖合的條件下，哪家有銀焊料，無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲， 所以會(huì)使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配，同樣也需要使用金屬鉬作為背靶材料。
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第8年
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