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四氯化4碳與氟化1氫的反應在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行，反應后的氣體經水洗、堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分經精餾而得成品。對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應離子刻蝕時，四氟化碳價格，通過調節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45:1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。四氟化碳的熱穩(wěn)定性更好。
四氟化碳（CF4）在電離后會產生含成分的刻蝕性氣相等離子體，能夠對各種有機表面實現(xiàn)刻蝕及有機物去除，在晶圓制造、線路板制造、太陽能電池板制造等行業(yè)中被廣泛應用。以活性炭與氟為原料經氟化反應制備。在裝有活性炭的反應爐中，緩緩通入高濃氟氣，并通過加熱器加熱、供氟速率和反應爐冷卻控制反應溫度。四氟化碳是一種鹵代烴，化學式CF4。它既可以被視為一種鹵代烴、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。零下198 °C時，四氟化碳具有單斜的結構，晶格常數(shù)為a = 8.597， b= 4.433，四氟化碳多少錢， c = 8.381 (.10-1?nm)， β = 118.73° 。
四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用。產品經除塵，堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質、再經脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進行間歇粗餾，通過控制精餾溫度，四氟化碳，除去O2、N2、H2，得到高純CF4。由碳與氟反應，或一氧1化碳與氟反應，四氟化碳公司，或碳化硅與氟反應，或氟石與石油焦在電爐里反應，或二氟二氯甲1烷與反應，或四氯1化碳與氟化銀反應，或四氯1化碳與氟1化氫反應，都能生成四氟1化碳。
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