在氧化層中大部分的電荷效應(yīng)是直接或間接地同熱氧化的工藝過(guò)程有關(guān)的。在800—1250~C的溫度范圍內(nèi),用干氧、濕氧或水汽進(jìn)行的熱氧化過(guò)程有三個(gè)持續(xù)的階段,首先是環(huán)境氣氛中的氧進(jìn)入到已生成的氧化層中,然后氧通過(guò)二氧化硅向內(nèi)部擴(kuò)散,當(dāng)它到達(dá)Si02-Si界面時(shí)就同硅發(fā)生反應(yīng),鋁鈍化哪家好,形成新的二氧化硅。這樣不斷發(fā)生著氧的進(jìn)入—擴(kuò)散—反應(yīng)過(guò)程,使靠近界面的硅不斷轉(zhuǎn)化為二氧化硅,氧化層就以一定的速率向硅片內(nèi)部生長(zhǎng)。
另一方面,界面層中的氫離子也要向陰極遷移,溶液中的負(fù)離子(包括OH-)向陽(yáng)極遷移。結(jié)果,陽(yáng)極附近有OH-離子和其他負(fù)離子富集。隨著電解反應(yīng)的延續(xù),處于緊鄰陽(yáng)極界面的溶液層中,電解質(zhì)濃度有可能發(fā)展到飽和或過(guò)飽和狀態(tài)。于是,鋁鈍化廠家,溶度積較小的金屬氫氧化物或某種鹽類(lèi)就要沉積在金屬表面并形成一層不溶性膜
當(dāng)金屬溶解時(shí),處在鈍化條件下,揚(yáng)州鋁鈍化,在表面生成緊密的、覆蓋性良好的固態(tài)物質(zhì),這種物質(zhì)形成獨(dú)鈍化立的相,鋁鈍化怎么樣,稱(chēng)為鈍化膜或稱(chēng)成相膜,此膜將金屬表面和溶液機(jī)械地隔離開(kāi),使金屬的溶解速度大大降低,而呈鈍態(tài)。實(shí)驗(yàn)證據(jù)是在某些鈍化的金屬表面上,可看到成相膜的存在,并能測(cè)其厚度和組成。
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