一種半導體氧化設備,其配有:由室壁界定的可密封氧化室;設置于氧化室內(nèi),并用來支撐半導體樣品的基座;用于向所述氧化室供應對所述
半導體樣品的特定部分進行氧化的水蒸汽的供應部分;監(jiān)測窗,其設置于所述氧化室的室壁之一內(nèi),并且設置于能夠面對支撐于所述基座上的所述半導體樣品的位置處;監(jiān)測部分,其設置于所述氧化室之外,并且能夠經(jīng)由所述監(jiān)測窗面對支撐于所述基座上的半導體樣品;以及調(diào)整所述基座和所述監(jiān)測部分之間的距離的調(diào)整部分。
半導體氧化設備具有可密封容器(或氧化室),將具有內(nèi)置加熱器的加熱臺設置于這一氧化室的室內(nèi)部。在加熱臺上設置襯底支座, 在襯底支座上放置半導體樣品(或半導體襯底)。氧化室還設有用于向室內(nèi)部提供包括蒸汽的氧化氣氛的輸入管和在氧化過程結(jié)束后用于排出室內(nèi)部 中的氧化氣氛的排出管。根據(jù)具有這樣的結(jié)構(gòu)的半導體氧化設備,有可能以相對高的復現(xiàn)性使半導體樣品均勻氧化。半導體設備泛指用于生產(chǎn)各類半導體產(chǎn)品所需的生產(chǎn)設備,屬于半導體行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈的關鍵支撐環(huán)節(jié)。半導體設備是半導體產(chǎn)業(yè)的技術先導者,太陽能光伏硅片清洗設備選擇,芯片設計、晶圓制造和封裝測試等需在設備技術允許的范圍內(nèi)設計和制造,宿州太陽能光伏硅片清洗設備,設備的技術進步又反過來推動半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。半導體氧化設備以及一種制造半導體元件的方法,其能夠沿平面方向保持包含在半導體樣品內(nèi)的選擇氧化層的氧化量的均勻性, 并適當?shù)乜刂蒲趸俊?p>
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