不銹鋼等離子拋光工藝
等離子拋光的原理:
透過高電壓令工件表層與特殊藥劑產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子膜,膜內(nèi)強(qiáng)烈等離子體化學(xué)反應(yīng)與電化學(xué)反應(yīng)使被處理表面產(chǎn)生陽極反應(yīng),同時(shí)又使陽極氧化層受到化學(xué)侵蝕,在氧化速度與侵蝕速度相等時(shí)出現(xiàn)整平及拋光效果,使工件增強(qiáng)光澤度及提高反射率?;瘜W(xué)反應(yīng)快及無孔不入,適合復(fù)雜形狀的工件!
等離子拋光工藝是以形成氣膜放電的原理進(jìn)行毛刺去除及拋光。等離子拋光可以應(yīng)用于螺桿(蝸桿)去毛刺、可以去除螺紋上機(jī)加的痕跡降低表面粗糙度、減少螺桿與軸承的摩擦系數(shù)、增加抗腐蝕性及耐磨性。等離子拋光的三個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)是成本更低,該過程更環(huán)保,并且具有該技術(shù)獨(dú)有的表面下?lián)p傷去除效果。等離子拋光晶圓與CMP晶圓比較而言,一直到二極管和MOSFET器件生成,肇慶不銹鋼等離子拋光,完整的晶圓電氣性能和良率結(jié)果已經(jīng)與CMP相當(dāng)(圖1)。
等離子拋光劑不使用消耗性有毒漿料,因此避免了相關(guān)的處置問題和高用水量,消除這些工藝要求可以將運(yùn)營成本降低多達(dá)85%。此外,該步驟上游的材料要求不需要改變,之后的工藝也看不到等離子拋光晶圓和CMP晶圓之間的差異。
不銹鋼等離子拋光
等離子拋光工藝屬于比較前沿的技術(shù),和激光除銹一樣,不銹鋼等離子拋光廠家,有著眾多優(yōu)勢。成本低、、無污染、無損傷、無結(jié)構(gòu)限制等等,不銹鋼等離子拋光報(bào)價(jià),很大程度上代表著未來智造的方向。
等離子拋光技術(shù)是一種全新的新型拋光工藝技術(shù),它主要是通過不銹鋼拋光技術(shù)發(fā)展而來的,不銹鋼等離子拋光哪里好,是一種高科技的現(xiàn)代化技術(shù)。現(xiàn)在的人們對于怎么將等離子拋光運(yùn)用好這一問題十分關(guān)注,因?yàn)槿绻己玫倪\(yùn)用這一技術(shù),便可以讓我們的時(shí)間節(jié)約很好,并且成本也下降很多。
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