鎢-鈦靶材作為光伏電池鍍膜材料是近發(fā)展起來的,它作為第三代太陽能電池的阻擋層是佳選擇。
由于 W-Ti 系列薄膜具有非常優(yōu)良的性能,近幾年來應用量急劇增加,2008年W-Ti 靶材世界用量已達到400t,朝陽純鈀靶材,隨著光伏產業(yè)的發(fā)展,這種靶材的需求量會越來越大。具行業(yè)預測其用量還會有很大的增加。國際太陽能電池市場以的速度增長,目前世界有30 多公司參與太陽能市場的進一步開發(fā), 并已有的公司產品投入市場。
各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來,濺射靶材及濺射技術的同步發(fā)展,純鈀靶材廠家,極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如,在半導體集成電路制造過程中,以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線:在平面顯示器產業(yè)中,各種顯示技術(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展,有的已經用于電腦及計算機的顯示器制造;在信息存儲產業(yè)中,磁性存儲器的存儲容量不斷增加,新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質量提出了越來越高的要求,需求數(shù)量也逐年增加。
但是靶材制作困難,純鈀靶材技術,這是因為氧化銦不容易燒結在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作為燒結添加劑,能夠獲得密度為理論值的93%~98%的靶材,這種方式形成的ITO薄膜的性能與添加劑的關系極大。日本的科學家采用Bizo作為添加劑,Bi2O3在820Cr熔化,在l500℃的燒結溫度超出部分已經揮發(fā),這樣能夠在液相燒結條件下得到比較純的ITO靶材。而且所需要的氧化物原料也不一定是納米顆粒,這樣可以簡化前期的工序。
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