濺射靶材ITO靶材的生產(chǎn)工藝 ITO靶材的生產(chǎn)工藝可以分為3種:熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結(jié)法。各種生產(chǎn)工藝及其特點(diǎn)簡(jiǎn)介如下:
熱等靜壓法:ITO靶材的熱等靜壓制作過(guò)程是將粉末或預(yù)先成形的胚體,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結(jié)。熱等靜壓工藝制造產(chǎn)品密度高、物理機(jī)械性能好,銀蒸發(fā)鍍靶材價(jià)格,但設(shè)備投入高,生產(chǎn)成本高,產(chǎn)品的缺氧率高。
熱壓法:ITO靶材的熱壓制作過(guò)程是在石墨或氧化鋁制的模具內(nèi)充填入適當(dāng)粉末以后,以 100kgf/cm 2~1000kgf/cm 2的壓力單軸向加壓,同時(shí)以1000℃~1600℃進(jìn)行燒結(jié)。熱壓工藝制作過(guò)程所需的成型壓力較小,燒結(jié)溫度較低,燒結(jié)時(shí)間較短。但熱壓法生產(chǎn)的ITO靶材由于缺氧率高,大連銀蒸發(fā)鍍靶材,氧含量分布不均勻,從而影響了生產(chǎn)ITO薄膜的均勻性,且不能生產(chǎn)大尺寸的靶。
背靶的選擇
對(duì)材質(zhì)的要求:一般選用無(wú)氧銅和鉬靶,厚度在3mm左右
導(dǎo)電性好:常用無(wú)氧銅,無(wú)氧銅的導(dǎo)熱性比紫銅好;
強(qiáng)度足夠:太薄,易變形,銀蒸發(fā)鍍靶材回收,不易真空密封。
結(jié)構(gòu)要求:空心或者實(shí)心結(jié)構(gòu);
厚度適中:3mm左右,太厚,消耗部分磁強(qiáng);太薄,容易變形。
銦焊綁定的流程
1.綁定前的靶材和背板表面預(yù)處理
2.將靶材和背板放置在釬焊臺(tái)上,升溫到綁定溫度
3.做靶材和背板金屬化
4.粘接靶材和背板
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