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負(fù)占空比對(duì)鈦合金微弧氧化膜層的影響
恒壓模式下，利用自制的多功能微弧氧化設(shè)備在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH電解液體系中制備了鈦合金陶瓷膜，輕金屬微弧氧化，采用掃描電鏡、X射線衍射儀等考察了負(fù)占空比(dc)對(duì)鈦合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相組成及耐蝕性的影響。結(jié)果表明：隨著dc的增加，膜層厚度減?。荒颖砻娉实湫偷亩嗫滋沾山Y(jié)構(gòu)，隨dc的增大，膜層表面微孔數(shù)量減少，孔徑增大且有裂紋產(chǎn)生；膜層相組成主要為T(mén)i、金紅石及銳鈦礦TiO2，在dc=45%時(shí)基體衍射峰消失。相對(duì)基體而言，膜層的硬度及耐蝕性都具有較大的提高；隨dc增加，膜層硬度增強(qiáng)，耐蝕性有一定程度的減弱。
微弧氧化膜層生長(zhǎng)時(shí)，首先在基體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一層陽(yáng)極氧化膜。當(dāng)增大反應(yīng)電壓時(shí)，輕金屬微弧氧化表面處理，膜層厚度會(huì)進(jìn)一步增加，輕金屬微弧氧化公司，厚度會(huì)隨之增加。但是當(dāng)反應(yīng)電壓增加到一定程度時(shí)，膜層會(huì)由于不能承受該工作電壓發(fā)生放電再擊穿，產(chǎn)生等離子放電。反應(yīng)的高溫將使膜層發(fā)生熔融，基體元素由于處在富氧環(huán)境中，將形成氧化物。同時(shí)由于是在電解液中，熔融物將瞬間冷凝，在基體表面生成一層陶瓷。陶瓷膜的生成，將導(dǎo)致工作電壓進(jìn)一步升高，膜層再次被擊穿，膜層厚度進(jìn)一步增加。周而復(fù)始，膜層得以生長(zhǎng)。
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你知道微弧氧化技術(shù)工藝是怎樣一個(gè)流程嗎？接下來(lái)日照微弧技術(shù)有限公司給大家著重介紹一下微弧氧化技術(shù)工藝的流程，輕金屬微弧氧化多少錢(qián)，一起來(lái)看一下吧
微弧氧化技術(shù)工藝流程主要包含三個(gè)部分：1.鋁基材料的前處理，2.微弧氧化，3.后處理三部分
微弧氧化技術(shù)其工藝流程如下：鋁基工件→化學(xué)除油→清洗→微弧氧化→清洗→后處理→成品檢驗(yàn)。
溫馨提示：以上是關(guān)于輕金屬微弧氧化表面處理-輕金屬微弧氧化-日照微弧的詳細(xì)介紹，產(chǎn)品由日照微弧技術(shù)有限公司為您提供，如果您對(duì)日照微弧技術(shù)有限公司產(chǎn)品信息感興趣可以聯(lián)系供應(yīng)商或者讓供應(yīng)商主動(dòng)聯(lián)系您 ，您也可以查看更多與行業(yè)專(zhuān)用設(shè)備相關(guān)的產(chǎn)品！
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第7年
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