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日照微弧技術(shù)有限公司

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等離子微弧氧化技術(shù)-微弧氧化技術(shù)-日照微弧氧化電源

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日照微弧技術(shù)有限公司

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負(fù)占空比對(duì)鈦合金微弧氧化膜層的影響

恒壓模式下,利用自制的多功能微弧氧化設(shè)備在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH電解液體系中制備了鈦合金陶瓷膜,低電壓微弧氧化技術(shù),采用掃描電鏡、X射線衍射儀等考察了負(fù)占空比(dc)對(duì)鈦合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相組成及耐蝕性的影響。結(jié)果表明:隨著dc的增加,微弧氧化技術(shù),膜層厚度減小;膜層表面呈典型的多孔陶瓷結(jié)構(gòu),隨dc的增大,膜層表面微孔數(shù)量減少,孔徑增大且有裂紋產(chǎn)生;膜層相組成主要為Ti、金紅石及銳鈦礦TiO2,在dc=45%時(shí)基體衍射峰消失。相對(duì)基體而言,膜層的硬度及耐蝕性都具有較大的提高;隨dc增加,膜層硬度增強(qiáng),耐蝕性有一定程度的減弱。

微弧氧化材料表面陶瓷化機(jī)理

微弧氧化是一種在高電壓、大電流下對(duì)金屬材料進(jìn)行表面處理的技術(shù)。由于采用了較高的電壓(大于250 V),在微弧氧化處理過(guò)程中,PEO技術(shù)微弧氧化,可在樣品材料表面觀察到光斑(弧光)現(xiàn)象。光斑十分細(xì)小,密度很大,且無(wú)固定位置。這種細(xì)小的光斑意味著在樣品材料表面形成了大量的等離子體微區(qū),在微區(qū)內(nèi)瞬間溫度可達(dá)2500℃以上,壓力可達(dá)數(shù)百個(gè)大氣壓,為上面提到的一系列化學(xué)、物理反應(yīng)的進(jìn)行創(chuàng)造了條件。利用這一環(huán)境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化層,可用來(lái)改善材料自身的防腐、耐磨和電絕緣等特性。

微弧氧化工藝流程

1、預(yù)處理

預(yù)處理的原因是由于鋁、鐵等合金長(zhǎng)時(shí)間放置在空氣中,表面易發(fā)生氧化,生成一層幾個(gè)微米的鈍化膜,同時(shí),其表面又極易吸附周圍環(huán)境中的雜質(zhì),形成表面吸附層。為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學(xué)性能,在微弧氧化處理前要對(duì)試樣表面進(jìn)行預(yù)處理。

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