x射線發(fā)生裝置原理
x射線的波長和晶體內(nèi)部原子面之間的間距相近,晶體可以作為X射線的空間衍射光柵,x射線發(fā)生裝置廠家,即一束X射線照射到物體上時(shí),受到物體中原子的散射,每個(gè)原子都產(chǎn)生散射波,這些波互相干涉,結(jié)果就產(chǎn)生衍射。衍射波疊加的結(jié)果使射線的強(qiáng)度在某些方向上加強(qiáng),在其他方向上減弱。分析衍射結(jié)果,便可獲得晶體結(jié)構(gòu)。
對于晶體材料,x射線發(fā)生裝置報(bào)價(jià),當(dāng)待測晶體與入射束呈不同角度時(shí),那些滿足布拉格衍射的晶面就會(huì)被檢測出來,體現(xiàn)在XRD圖譜上就是具有不同的衍射強(qiáng)度的衍射峰。對于非晶體材料,由于其結(jié)構(gòu)不存在晶體結(jié)構(gòu)中原子排列的長程有序,x射線發(fā)生裝置,只是在幾個(gè)原子范圍內(nèi)存在著短程有序,故非晶體材料的XRD圖譜為一些漫散射饅頭峰。
x射線發(fā)生裝置-涂層應(yīng)用
現(xiàn)代生活的每個(gè)環(huán)節(jié)都得益于涂層或薄膜技術(shù)。無論是集成電路芯片上的阻擋層薄膜還是鋁制飲料罐上的涂層,X射線是研發(fā),產(chǎn)品過程控制和不可缺少的分析技術(shù)。作為納米技術(shù)研究,X射線衍射(XRD)和附屬技術(shù)被用于確定薄膜分子結(jié)構(gòu)的性質(zhì)。理學(xué)的技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)為涂層和薄膜測量提供各種無損分析解決方案。
x射線發(fā)生裝置使用范圍:
金屬材料:半導(dǎo)體材料、合金、超導(dǎo)材料、粉末冶金材料;無機(jī)材料:陶瓷材料、磁性材料、催化劑、礦物、水泥、玻璃;復(fù)合材料:碳纖維、纖維大分子、工業(yè)廢棄物;有機(jī)材料:品、工程塑料、各種樹脂等。利用波長很短的電磁波能穿透一定厚度的物質(zhì),并能使熒光物質(zhì)發(fā)光、照相機(jī)乳膠感、氣體電離,測定物質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu),x射線發(fā)生裝置公司,織構(gòu)及應(yīng)力,的進(jìn)行物相分析,定性分析,定量分析。
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