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主營：等離子拋光設(shè)備,等離子拋光機(jī),等離子電漿拋光設(shè)備
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| 先生： |
等離子要運(yùn)用在拋光上面是需要具備一定的條件才可以做拋光的，首先要產(chǎn)生等離子必須要有電場存在、換句通俗的話來說要有電源存在還要有被離化的物質(zhì)，在拋光鄰域被離化的物質(zhì)就是我們的拋光鹽，等離子拋光鹽是個關(guān)鍵的介質(zhì)、它也要具備兩個條件，一被離化成離子轟擊產(chǎn)品表面、二離化的酸根離子要能跟產(chǎn)品表面發(fā)生微反應(yīng)，且是正向的作用、至少不能是負(fù)作用，只有這樣才能得到等離子拋光的功效。
在高溫超高電流的作用下，電解質(zhì)水產(chǎn)生電離子，分離化學(xué)液態(tài)電漿，利用電解質(zhì)水溶和高溫、高壓的配合產(chǎn)生等離子，等離子與工件的表面摩擦而產(chǎn)生拋光的效果。等離子拋光的過程中涉及到化學(xué)變化，其材料去除機(jī)理主要表現(xiàn)在材料的化學(xué)去除過程，其原理為反應(yīng)等離子在放電過程中產(chǎn)生許多離子和化學(xué)活物質(zhì)，這些中性物質(zhì)稱其為自由基，與原來的氣體分子相比，這些自由基是活躍的刻溶劑。等離子體的材料去除機(jī)理不僅僅包括化學(xué)反應(yīng)的去除原理，還包含物理方法的去除原理，但主要的還是氣相化學(xué)反應(yīng)去除原理。
傳統(tǒng)金屬表面處理方式往往需要借助各種設(shè)備，從機(jī)械切削、化學(xué)腐蝕到電化學(xué)處理等，過程繁瑣，效率低下，且易產(chǎn)生環(huán)境污染。而近年來興起的等離子拋光技術(shù)革新了金屬表面處理方式，可以快速、地拋光金屬表面，使其變得光滑，亮麗，達(dá)到理想的質(zhì)感。等離子拋光技術(shù)是指利用離子放電原理，通過高能量的放電通道來拋光材料表面，從而實現(xiàn)金屬表面微觀整平。相比傳統(tǒng)處理方式，等離子拋光技術(shù)適用于多種以上的金屬材質(zhì)，一臺設(shè)備即可完成多種材質(zhì)產(chǎn)品的拋光處理，省去了企業(yè)高昂的購機(jī)成本。此外，等離子拋光技術(shù)效率極高，一分鐘即可拋光100多件產(chǎn)品，拋光效果鏡面高亮精度可達(dá)0.002mm，粗糙度(RMS)可達(dá)0.01微米，生產(chǎn)效率得到大幅提升。
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第7年
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